PIDゲイン
比例ゲイン Kp
積分時間 Ti (s)
s
大きいほどI項が弱い。完全停止は下のチェック欄。
微分時間 Td (s)
s
目標値 SP
シミュレーション時間 (s)
s
プリセット
パフォーマンス指標
閉ループ・ライブ制御（PVがSPを追従）
0.70
目標値 SP
0.000
現在値 PV
0.700
偏差 e
0.00
制御出力 u
0.0%
オーバーシュート
—
立上り時間
—
整定時間
0.700
定常偏差
0.000
Ki=Kp/Ti
0.00
Kd=Kp·Td
PV（液位）
SP（目標）
e（偏差）
u（流入＝制御出力）
比例ゲイン Kp1.50
積分時間 Ti (s)8.0
微分時間 Td (s)0.00
目標液位 SP0.70
プロセス時定数 τ (s)5.0
Kp/Ki/Kdを変えると閉ループ応答が「鈍い→俊敏→振動→不安定」と目に見えて変化します。1次遅れプラントではP制御のみで定常偏差=1/(1+Kp·K)が残り、I項を加えると偏差→0になります。
計算結果
—
90%到達時間 (s)
—
整定時間 ts (s)
—
オーバー シュート %
—
終了時偏差 %
—
IAE
—
ITAE
プロセス変数 y(t) とセットポイント
コントローラー出力 u(t)
PID 制御入力 u(t)
プロセス変数 y(t)
目標値 SP
制御出力 u(t)
理論・主要公式
$$u(t)=K_p\!\left[e(t)+\frac{1}{T_i}\!\int_0^t\!e\,d\tau+T_d\frac{de}{dt}\right]$$
ZN整定式（ステップ応答法）：
$K_p=1.2\,\tau/(K\cdot L),\quad T_i=2L,\quad T_d=0.5L$
$K_p=1.2\,\tau/(K\cdot L),\quad T_i=2L,\quad T_d=0.5L$
